2010年口腔執(zhí)業(yè)醫(yī)師考試復(fù)習(xí)的記憶要點(diǎn)(匯總)
時(shí)間:2010-08-23 13:49:00 來(lái)源:無(wú)憂考網(wǎng) [字體:小 中 大]
口腔考試的一些技巧
1灌注無(wú)牙合石膏模型時(shí),其厚度不應(yīng)少于 10mm
2在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí),最深處的深度為 1.0~1.5 mm
3在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí),最寬處的寬度為 5.0mm
4下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊 13~12
5垂直距離等于息止頜位距離減去 2~4mm
6合平面堤與上唇下緣的關(guān)系是唇下 2mm
7微笑時(shí),唇高線(上唇下緣)在上頜中切牙的 23
8微笑時(shí)。唇低線(下唇上緣)在下頜中切牙的 12
9大笑時(shí),唇高線與唇低線分別為,上下頜中切牙的 全部
10解剖式人工牙的牙尖斜度 30~33度
11半解剖式人工牙的牙尖斜度 20度
12非解剖式人工牙的牙尖斜度 0度
13上頜側(cè)切牙的切緣距離合平面 1mm
14下頜中切牙切緣高出合平面 1mm
15上頜前磨牙頰尖接觸合平面,舌尖離開(kāi)合平面約 1mm
16上頜第一磨牙遠(yuǎn)中舌尖,近中頰尖與遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)合平面 1mm
17上頜第二磨牙舌尖離開(kāi)合平面 1mm近中頰尖高出合平面 2mm遠(yuǎn)中頰尖高出合平面 2.5mm
1灌注無(wú)牙合石膏模型時(shí),其厚度不應(yīng)少于 10mm
2在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí),最深處的深度為 1.0~1.5 mm
3在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí),最寬處的寬度為 5.0mm
4下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊 13~12
5垂直距離等于息止頜位距離減去 2~4mm
6合平面堤與上唇下緣的關(guān)系是唇下 2mm
7微笑時(shí),唇高線(上唇下緣)在上頜中切牙的 23
8微笑時(shí)。唇低線(下唇上緣)在下頜中切牙的 12
9大笑時(shí),唇高線與唇低線分別為,上下頜中切牙的 全部
10解剖式人工牙的牙尖斜度 30~33度
11半解剖式人工牙的牙尖斜度 20度
12非解剖式人工牙的牙尖斜度 0度
13上頜側(cè)切牙的切緣距離合平面 1mm
14下頜中切牙切緣高出合平面 1mm
15上頜前磨牙頰尖接觸合平面,舌尖離開(kāi)合平面約 1mm
16上頜第一磨牙遠(yuǎn)中舌尖,近中頰尖與遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)合平面 1mm
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